K&F Concept Nano-X MC-UV Objektív-Szűrő/ Filter -55mm
NINCS RAKTÁRON
Szűrő típusa:
NINCS RAKTÁRON
Vedd regisztrációval, és jóváírunk a pontgyűjtő számládon:
59 Ft
Budapest központi raktárunk
NINCS RAKTÁRON
Aznap átvehető a rendelés* / Futárral 1 munkanap!
Budapesti üzletünk
NINCS RAKTÁRON
Nagyvárad téri boltunkban
Külső raktár (4-9 nap)
NINCS RAKTÁRON
Külső raktárunk, szállítás 4-9 nap!
K&F Concept Nano-X MC-UV Objektív-Szűrő/ Filter -55mm
55mm-es Nano-X MC-UV védőszűrő prémium B270 japán optikai üvegből. Megvédi az objektívet a portól, karcolásoktól és ütésektől, miközben az UV-fény csökkentésével tisztább, kontrasztosabb képet ad.
- Objektívvédelem por, karc és ujjlenyomat ellen
- B270 HD japán optikai üveg, 4x erősebb kivitel
- 28 rétegű nano többrétegű bevonat, 99,6% fényáteresztés
- Hidrofób, olaj- és karcálló felület
- Ultravékony keret vignettálás nélkül
Mikor kapja meg a terméket?
| Bolti raktáron Azonnal átvehető budapesti boltunkban. |
| Raktáron 12:00-ig rendelve → aznap feladjuk, másnap megérkezik (GLS / Foxpost / MPL / csomagpont). Bolti átvétel: 13:00-ig leadva még aznap átvehető. |
| Rendelhető Külső raktáron / beszállítás alatt — várható szállítás: 4–9 munkanap. Rendelés után bővebb tájékoztatást küldünk. |
| Nincs raktáron 14 napon belül nem várható készlet. Kattintson a harang ikonra az értesítéshez. |
* Egyes termékeknél a kép csak illusztráció, a valóságban eltérő lehet.
Az alábbi terméket ajánljuk még kiegészítőként
